实验室用快速退火炉
实验室用快速退火炉
产品价格:(人民币)
  • 规格:完善
  • 发货地:本地至全国
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    认证类型:企业认证
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    商铺名称:北京朗铭润德光电科技有限公司

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    商品详情

      产品简介

      品牌 产地类别 应用领域
      其他品牌进口
      医疗卫生,环保,化工,能源,电子

      实验室用快速退火炉 又名RTP设备,此设备为型号AS-One系列,分为可以处理4“基片的AS-ONE100以及处理6“基片的AS-ONE150,更小的基片可使用基片托。主要用于大学,研究实验室以及年产量高达10000晶圆的小规模生产。

      详情介绍

        实验室用快速退火炉    1、设备尺寸详情:
         AS-0NE100:530*800*1425mm
         2、型号介绍:
         不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉),具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
         3、性能和特征:
         可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆,可适用大范围类型的基片:硅和化合物半导体晶圆,GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆,多晶硅晶圆,玻璃,金属,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盘等等。
         设备应用具有:硒化、硫化、接触退火,注入退火,RTO (快速热氧化) ,RTN (快速热氮化) ,硅平滑,扩散,致密化和结晶化,石墨烯CVD,碳纳米管等。
         不锈钢水冷腔壁技术,高工艺复现性,超洁净及无污染环境
         高冷却速率,低记忆效应
         具有真空能力,可选配分子泵
         温度控制:高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
         边缘高温计视口,确保用于化合物半导体和小型样品
         基片托的温度控制
         实验室用快速退火炉
           4、快速退火炉的具体参数
         温度范围: 室温至1250°C(AS-One100)、室温至1450°C(AS-One100HT)、室温至1200°C(AS-One150)、室温至1300°C(AS-One150HT)、升温速率:可达200°C/s(AS-One100),可达150°C/s(AS-One150)
         特殊配置下冷却速率达 100°C/s(选配快速冷却装置)
         可配5条带质量流量控制器(MFC)的工艺气路
         标配一条吹扫气路
         具有真空能力,配备干泵,可选配分子泵。
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