发明专利申请流程
[发明授权] 提供气隙控制的微机电系统装置及其制造方法
本发明提供用于控制光调制装置的两个层之间的腔的深度的方法和设备。一种制造光调制装置的方法包括:提供衬底;在所述衬底的至少一部分上方形成牺牲层;在所述牺牲层的至少一部分上方形成反射层;以及在所述衬底上方形成一个或一个以上挠曲控制器,所述挠曲控制器经配置以可操作地支撑所述反射层,且在移除所述牺牲层时,形成深度可测量地不同于所述牺牲层的厚度的腔,其中垂直于所述衬底测量所述深度。
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《能源----环境保护》 第2、3主编;
《单片机开发----设计实例分析》第2、3主编;
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《物理----思维创新》第2、3主编;
《计算机技术----教育》第2、3主编;
《计算机----公共图书馆管理 》第2、3主编;
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